Ge/Si(100)界面互扩散的喇曼光谱

• 作者: 刘晓晗 周星飞 张翔九 施斌 胡冬枝 蒋伟荣 蒋最敏
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Ge/Si互扩散 分子束外延 喇曼光谱 表面活化剂
• 年，卷（期）: 2000,（7）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 662-666
• 页数: 5页
• 分类号: O482.3
• 字数: 2300字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2000.07.007

摘要

利用喇曼光谱研究了不同温度下在Si(100)衬底上异质外延Ge层由于扩散引起的Ge/Si异质结界面互混以及表面活化剂Sb对其的影响.结果表明表面活化剂Sb的存在大大抑制了界面的互扩散,在650℃下也没有观察到明显的界面互混.没有Sb时,在500℃下已存在一定程度的界面互混,界面互混程度随外延层生长温度的增高而增强.这种互扩散的差别与成岛生长时应变释放有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	施斌	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	18	196	8.0	14.0
2	蒋伟荣	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	3	12	2.0	3.0
3	周星飞	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	2	5	1.0	2.0
4	胡冬枝	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	5	18	3.0	4.0
5	刘晓晗	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	3	17	2.0	3.0
6	蒋最敏	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	24	93	5.0	9.0
7	张翔九	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	6	16	3.0	4.0