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摘要:
采用射频磁控共溅射与高真空退火相结合的方法,分别在单晶硅片和光学石英玻璃片上制备了GaAs/SiO2纳米晶镶嵌薄膜样品.激光拉曼光谱的测量结果表明,退火态样品(400℃,60 min)的拉曼光谱特征峰呈现宽化和红移,红移量为9.5 cm-1,对应薄膜中GaAs纳米晶粒平均粒径约为3 nm.样品的室温吸收光谱测量结果表明,由于受量子限域效应的主导作用,与GaAs块状单晶相比,样品光学吸收边呈现出明显的蓝移,蓝移量为1.78 eV,而且在吸收光谱上还出现了若干可分辨的吸收峰.
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关键词云
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文献信息
篇名 GaAs/SiO2纳米晶镶嵌薄膜的拉曼光谱与吸收光谱研究
来源期刊 光学学报 学科 物理学
关键词 半导体纳米晶 GaAs 薄膜 光谱性质
年,卷(期) 2000,(6) 所属期刊栏目 光学材料
研究方向 页码范围 847-851
页数 5页 分类号 O4
字数 2816字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-2239.2000.06.024
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨恢东 五邑大学数学物理系薄膜研究所 13 91 5.0 9.0
2 丁瑞钦 五邑大学数学物理系薄膜研究所 29 115 6.0 9.0
3 王浩 五邑大学数学物理系薄膜研究所 9 46 4.0 6.0
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研究主题发展历程
节点文献
半导体纳米晶
GaAs
薄膜
光谱性质
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学学报
半月刊
0253-2239
31-1252/O4
大16开
上海市嘉定区清河路390号(上海800-211信箱)
4-293
1981
chi
出版文献量(篇)
11761
总下载数(次)
35
总被引数(次)
130170
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