利用AFM研究溶剂对菁染料薄膜光学性能的影响

• 作者: 冈崎庸树 周树云 张俊平 速水正明 陈萍
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 工学
• 关键词: 菁染料薄膜 溶剂效应 AFM
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 257-261
• 页数: 5页
• 分类号: TQ57
• 字数: 1777字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.2001.04.004

摘要

在CD-R光盘中,要求记录介质薄膜有良好的光学性能,这样才能降低噪音,提高数据存储与读取的可靠性.菁染料是应用最广泛的记录介质,本文采用旋涂法制备菁染料薄膜时,发现溶剂对薄膜的光学性能有很大的影响.通过AFM对薄膜表面的微观精细结构的研究表明,染料薄膜反射率的高低与薄膜表面粗糙度有关.其中使用氯仿、四氟丙醇和二丙酮醇作溶剂时,制备的染料薄膜表面平整,反射率较高;使用甲醇作溶剂时,染料薄膜布满直径0.3μm左右的晶粒,对光线有强烈散射作用,从而降低了染料薄膜的光学性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周树云	中国科学院理化技术研究所	14	68	5.0	8.0
2	陈萍	中国科学院理化技术研究所	50	544	10.0	22.0
3	张俊平	中国科学院理化技术研究所	25	499	11.0	22.0
4	速水正明		2	8	2.0	2.0
5	冈崎庸树		2	8	2.0	2.0