CVD异质外延金刚石膜最新研究进展

• 作者: 廖克俊 方亮 王万录
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 异质外延 金刚石膜 生长和表征 化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2001,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 29-33
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3914字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2001.05.008

摘要

评论了国内外化学气相沉积的异质外延金刚石膜制备技术、性质表征以及应用和展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王万录	重庆大学理学院应用物理系	109	849	16.0	22.0
2	廖克俊	重庆大学理学院应用物理系	66	513	12.0	19.0
3	方亮	重庆大学理学院应用物理系	62	513	12.0	18.0