化学气相沉积过程各参数对沉积速度和薄膜晶体组织结构的影响

• 作者: 徐庆元 熊国刚 肖李鹏
• 来源期刊: 理化检验-物理分册
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 薄膜 沉积速率 晶体结构
• 年，卷（期）: 2001,（10）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 420-423
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3114字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4012.2001.10.002

摘要

以氢气还原氯化钨沉积纯钨薄膜为例,简述了化学气相沉积法反应的主要原理,叙述了在反应过程中各参数对沉积速率的影响,及各参数对晶体结构的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊国刚	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	10	78	5.0	8.0
2	肖李鹏	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	9	88	3.0	9.0
3	徐庆元	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	6	50	4.0	6.0