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摘要:
提出减低p-Si单晶表面复合速度参数值的两个行而有效的方法,解释了其不同的作用机理.实验表明,经HF腐蚀处理过的p-Si单晶,自然晾干的表面复合速度测算值比红外灯烘干的测算值低1个量级以上;而对于同一p-Si单晶,置于氮气氛围之中的测算值要比大气之中的测算值低2个量级以上.
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文献信息
篇名 p-Si单晶低表面复合速度的获得
来源期刊 厦门大学学报(自然科学版) 学科 物理学
关键词 p-Si单晶 低表面复合速度
年,卷(期) 2001,(5) 所属期刊栏目 物理学·技术科学
研究方向 页码范围 1045-1050
页数 6页 分类号 O472.1
字数 3502字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0438-0479.2001.05.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 颜永美 厦门大学物理学系 5 9 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
p-Si单晶
低表面复合速度
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
厦门大学学报(自然科学版)
双月刊
0438-0479
35-1070/N
大16开
福建省厦门市厦门大学囊萤楼218-221室
34-8
1931
chi
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