靶面淀积参数对真空微电子平板摄像管特性的影响

• 作者: 刘光诒 吕永积 施化芬 邵佑军
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 真空微电子平板摄像管 真空热预处理 非真空热后处理
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 265-269
• 页数: 5页
• 分类号: TN873.95|TN105
• 字数: 1770字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2002.04.005

摘要

为了开发用于真空微电子平板摄像管的高灵敏度CdSe多层光导材料,改建了一台能精确控制CdSe材料的蒸发速率、厚度和基体温度的高真空蒸镀设备,开发了由真空热预处理,非真空热后处理二种处理新工艺,制造出了新的高性能的CdSe多层光导靶.使CdSe多层光导靶的灵敏度提高了两个数量级,而清晰度(分辨率)保持不变.介绍了CdSe蒸发工艺对靶面特性的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘光诒	中国科学院电子学研究所	8	13	3.0	3.0
2	吕永积	广电总局广科院光电研究所	1	2	1.0	1.0
3	邵佑军	广电总局广科院光电研究所	1	2	1.0	1.0
4	施化芬	广电总局广科院光电研究所	1	2	1.0	1.0