直流电弧等离子体喷射CVD金刚石膜的制备工艺探讨

• 作者: 方向阳
• 来源期刊: 宁夏工程技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 金刚石膜 等离子体喷射
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 新材料、新工艺、新技术研究与应用
• 页码范围: 246-249
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.3
• 字数: 4860字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7244.2002.03.015

摘要

介绍了直流电弧等离子体喷射CVD金刚石膜的沉积原理,探讨了在实际生产过程中获得高质量CVD金刚石膜的工艺条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方向阳		2	12	2.0	2.0