深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用

• 作者: 余国彬 姚汉民 胡松 陈兴俊
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微型机电系统 微细加工 LIGA工艺 深度光刻
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: MEMS器件与技术
• 页码范围: 30-32
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 字数: 1979字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2002.04.007

摘要

随着MEMS在各个领域的运用,人们也开始探讨低成本、操作方便的LIGA工艺.本文重点介绍了一种用于深紫外光深度光刻实验装置的设计,并将该实验装置成功地应用于LIGA工艺的深度光刻中,光刻实验结果表明深紫外光深度光刻具有很大的实用意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
2	姚汉民	中国科学院光电技术研究所	44	355	9.0	16.0
3	余国彬	中国科学院光电技术研究所	22	129	7.0	10.0
4	陈兴俊	中国科学院光电技术研究所	6	42	4.0	6.0