SU-8紫外深度光刻的误差及修正

• 作者: 刘刚 周洪军 李晓光 沈连婠 田杨超 郑津津 陈有梅
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: SU-8光刻胶 紫外深度光刻 掩模 图形转移 误差修正
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 2007中德双边高级专家X射线光学研讨会专栏
• 页码范围: 1926-1931
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924x.2007.12.017

摘要

在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的.难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且其穿透深度也相应迅速变小;同时由于紫外光的衍射效应,获得高精度的大高宽比结构并不容易.本文深入研究了影响紫外深度光刻图形转移精度的如下因素;衍射效应、曝光剂量、紫外光波长和蝇眼透镜的分布等等.建立了基于模型区域的校正系统,该校正系统采用了分类分区域的思想将掩模图形按其畸变的特点进行了分类,在校正过程中对不同的类别分别建立校正区域,在每一校正区域内进行校正优化处理和校正评价,这种基于模型的分类分区域评价思想,使得校正过程有效且实时,该校正方法不仅降低了校正的复杂性,同时提高了校正的效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑津津	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	56	224	8.0	11.0
2	沈连婠	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	63	319	7.0	12.0
3	李晓光	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	55	673	9.0	25.0
4	周洪军		6	29	4.0	5.0
5	刘刚		5	22	3.0	4.0
6	陈有梅	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	3	13	3.0	3.0
7	田杨超		1	7	1.0	1.0