SU-8胶紫外光刻的尺寸精度研究

• 作者: 刘冲 朱神渺 李园园 杜立群 秦江
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: SU-8胶 菲涅耳衍射 紫外光刻 尺寸精度 MATLAB
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 447-452
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2775字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2007.04.002

摘要

研究了衍射效应对SU-8胶紫外光刻尺寸精度的影响.根据菲涅耳衍射理论建立了紫外曝光改进模型,预测微结构的尺寸,分析了光刻参数变化对尺寸的影响.为了更好地与数值模拟结果进行比较,以硅为基底,进行了SU-8胶紫外光刻的实验研究.实验分四组,实验中掩模的特征宽度分别取50 μm、100 μm、200 μm和400 μm,SU-8胶表面的曝光剂量取400 mJ/cm2.用扫描电镜测量了微结构的顶部线宽、底部线宽和SU-8胶的厚度,用MATLAB软件对紫外曝光过程中SU-8胶层内曝光剂量的分布情况进行了数值模拟,数值模拟结果与实验结果基本吻合.数值模拟结果为进一步的实验研究提供了光刻参数的参考值.