SU-8胶在深紫外光源下的光强分布模拟

• 作者: 冯明 周再发 朱真 李伟华 黄庆安
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 菲涅尔衍射 深紫外光强度分布 SU-8胶
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 微纳制造
• 页码范围: 1470-1472,1476
• 页数: 4页
• 分类号: TN0
• 字数: 1931字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2006.05.042

摘要

本文根据菲涅尔衍射的原理,在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下,给出了SU-8胶在365 nm光源下经过方孔曝光时,光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模拟.将试验结果与实际情况相比,表现出了一定的适用性,可以近似作为光刻胶形貌的最后近似.