SU-8光刻胶应变分布光学全场检测方法

• 作者: 卢怡如 吕有斌 涂思琪 王永红 王鑫
• 来源期刊: 中国光学
• 学科: 工学
• 关键词: 剪切散斑干涉 SU-8 光刻胶 应力分布 应变 仿真模拟
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 光学仪器与测试
• 页码范围: 379-384
• 页数: 6页
• 分类号: TP394.1|TH691.9
• 字数: 3060字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CO.20160903.0379

摘要

由于 SU-8光刻胶的内应力将会影响高深宽比结构的全金属光栅的制作质量，本文针对近年来 SU-8光刻胶应力测量困难的情况，提出了一种基于激光剪切散斑干涉技术的 SU-8光刻胶应变分布测量的新方法。该方法通过对被测胶体加载前后两幅干涉图像的处理，直接得到被测胶体结构的全场应变分布情况，由胶体的应变变形数据即可反映出内应力的变化和分布趋势。同时使用 ANSYS 有限元分析软件对同一被测胶体进行应变仿真模拟研究，获得胶体结构的变形场仿真数据。组建了实验系统，进行了实验验证，结果表明：实际测量变形量约为1．189μm，仿真的最大变形量为1．088μm，测量误差在允许范围内，且测量的形变趋势与仿真模拟结果相一致，表明激光剪切散斑干涉技术可应用于SU-8光刻胶的应变分布全场无损检测。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王永红	合肥工业大学仪器科学与光电工程学院	58	365	11.0	15.0
2	王鑫	合肥工业大学仪器科学与光电工程学院	17	77	5.0	8.0
3	涂思琪	合肥工业大学仪器科学与光电工程学院	3	12	2.0	3.0
4	吕有斌	合肥工业大学仪器科学与光电工程学院	2	13	2.0	2.0
5	卢怡如	合肥工业大学仪器科学与光电工程学院	1	2	1.0	1.0