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摘要:
基于UV-LIGA技术采用SU-8光刻胶制备了高深宽比微结构,最高深宽比达20:1.研究了改变光源的波长和曝光量对SU-8光刻胶成形的影响,揭示了在一定范围内线宽随曝光量非线性变化的规律.从聚合度和聚合所得高分子结构两方面对该变化规律给出了合理的解释,并基于该变化规律提出了一种新的消除微结构倒角的方法.
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内容分析
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文献信息
篇名 UV-LIGA中光源波长和曝光量对SU-8光刻胶微结构的影响
来源期刊 中国机械工程 学科 工学
关键词 UV-LIGA技术 SU-8胶 高深宽比微结构 倒角
年,卷(期) 2005,(z1) 所属期刊栏目 微纳加工与测试及封装技术
研究方向 页码范围 437-440
页数 4页 分类号 TN23
字数 4353字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1004-132X.2005.z1.157
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘景全 上海交通大学微米/纳米加工技术国家重点实验室 24 232 7.0 15.0
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研究主题发展历程
节点文献
UV-LIGA技术
SU-8胶
高深宽比微结构
倒角
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国机械工程
半月刊
1004-132X
42-1294/TH
大16开
湖北省武汉市湖北工业大学772信箱
38-10
1973
chi
出版文献量(篇)
13171
总下载数(次)
15
总被引数(次)
206238
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
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