掺杂氧的Ge-Sb-Te相变薄膜的光学性质

• 作者: 侯立松 刘波 陈静 顾四朋
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Ge-Sb-Te薄膜 氧掺杂 光学性质 光存储
• 年，卷（期）: 2002,（9）
• 所属期刊栏目: 简讯
• 页码范围: 1137-1140
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2191字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2002.09.026

摘要

研究了氧掺入Ge-Sb-Te射频溅射相变薄膜在400 nm～800 nm区域的光学常数(n,κ)和反射、透射光谱,发现适当的氧掺入能大大增加退火前后反射率对比度,因此可通过氧掺入改良Ge-Sb-Te相变材料的光存储性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘波	中国科学院上海光学精密机械研究所	266	2712	24.0	39.0
2	侯立松	中国科学院上海光学精密机械研究所	43	407	13.0	18.0
3	顾四朋	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	57	4.0	7.0
4	陈静	国家红外物理实验室中国科学院上海技术物理所	1	3	1.0	1.0