X射线光刻机的开发研制

• 作者: 李连进
• 来源期刊: 天津理工学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻机 X射线 集成电路
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 页码范围: 79-83
• 页数: 5页
• 分类号: TH405|TH39
• 字数: 5037字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-095X.2002.03.024

摘要

X射线光刻是一种能满足大规模集成电路生产的加工技术.本文论述了X射线光刻技术的发展历史和前景,阐述X射线光刻机的光源、曝光系统、掩摸和步进驱动平台等的主要结构和研制动机,提出在X射线光刻机设计中要注意的几个主要问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李连进	天津理工学院机械工程学院	16	107	6.0	9.0