微波等离子CVD法在石英玻璃上生长金刚石薄膜

• 作者: 朱建勇 李力 柴欣 梅炳初
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积法 X射线衍射 Raman光谱 光电子能谱 金刚石薄膜
• 年，卷（期）: 2002,（10）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 7-8
• 页数: 2页
• 分类号: TF124.8
• 字数: 2123字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2002.10.003

摘要

在真空条件下采用氢气刻蚀二氧化硅形成硅膜,用微波等离子化学气相沉积法在玻璃上生长金刚石薄膜,并用X射线衍射、Raman光谱和光电子能谱对石英玻璃上的金刚石薄膜进行分析,指出其形成中间层SiO-2/Si/SiC/C(金刚石)是在石英玻璃上生长金刚石薄膜的关键.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梅炳初	武汉理工大学复合材料复合新技术国家重点实验室	119	997	17.0	24.0
2	李力	武汉理工大学复合材料复合新技术国家重点实验室	27	325	7.0	17.0
3	朱建勇	武汉理工大学复合材料复合新技术国家重点实验室	5	27	1.0	5.0
4	柴欣	武汉理工大学复合材料复合新技术国家重点实验室	5	27	1.0	5.0