射频反应溅射制备SnO2薄膜机理研究

• 作者: 马黎君
• 来源期刊: 北京建筑工程学院学报
• 学科: 物理学
• 关键词: SnO2薄膜 射频 薄膜机理
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 页码范围: 72-76
• 页数: 5页
• 分类号: O484:TG113.22
• 字数: 3443字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-6011.2003.01.017

摘要

SnO2薄膜的成膜机制是研究其结构的一项重要内容,本文就射频反应溅射成膜过程中影响成膜质量的因素进行了讨论,给出了薄膜形成过程的初步模型,分析了影响薄膜成长和特性的因素.