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金刚石膜在Si(100)衬底上的选择沉积
金刚石膜在Si(100)衬底上的选择沉积
作者:
常开朋
张阳
朱鹤孙
江锦春
沈德忠
程文娟
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
金刚石膜
Si(100)衬底
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)
摘要:
采用自行设计的微波等离子体化学气相沉积系统,利用铜网作为模板实现了在Si(100)衬底上金刚石膜的选择沉积.用场发射扫描电子显微镜(SEM)、Raman散射谱对样品进行了表征与分析.并与同样生长条件下未采用模板时得到的金刚石样品进行了比较.结果发现,采用模板后,金刚石膜的成核密度和质量都得到很大提高.
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文献信息
篇名
金刚石膜在Si(100)衬底上的选择沉积
来源期刊
人工晶体学报
学科
物理学
关键词
金刚石膜
Si(100)衬底
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)
年,卷(期)
2003,(6)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
610-612
页数
3页
分类号
O484.1
字数
1573字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-985X.2003.06.013
五维指标
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
金刚石膜
Si(100)衬底
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
主办单位:
中材人工晶体研究院有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-985X
CN:
11-2637/O7
开本:
16开
出版地:
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
邮发代号:
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
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