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摘要:
采用自行设计的微波等离子体化学气相沉积系统,利用铜网作为模板实现了在Si(100)衬底上金刚石膜的选择沉积.用场发射扫描电子显微镜(SEM)、Raman散射谱对样品进行了表征与分析.并与同样生长条件下未采用模板时得到的金刚石样品进行了比较.结果发现,采用模板后,金刚石膜的成核密度和质量都得到很大提高.
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文献信息
篇名 金刚石膜在Si(100)衬底上的选择沉积
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 金刚石膜 Si(100)衬底 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)
年,卷(期) 2003,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 610-612
页数 3页 分类号 O484.1
字数 1573字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-985X.2003.06.013
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研究主题发展历程
节点文献
金刚石膜
Si(100)衬底
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
7423
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16
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