成膜与热处理参数对溅射沉积ITO膜电性能的影响

• 作者: 张浩康 邓一唯
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: ITO膜 直流磁控反应溅射 热处理
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 页码范围: 441-443
• 页数: 3页
• 分类号: TN104
• 字数: 2431字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2003.04.028

摘要

采用了补氧直流磁控反应溅射工艺制备ITO膜,在不同基片加热温度和补氧流量下获得最低方块电阻值的最佳制备工艺.对制备的ITO薄膜进行了退火热处理,研究不同温度热处理后膜的方块阻值的变化.实验表明,对一定的基片加热温度,ITO膜的方块电阻与溅射气氛中的补氧流量有关,并存在一个最佳补氧的值,在该条件下制备ITO的方块电阻最小,在膜厚为40 nm埃时仅有不到100Ω/□.影响溅射沉积ITO透明导电薄膜方阻的,除了溅射沉积时基片的烘烤温度和补氧流量外,还包括后期大气退火热处理的温度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张浩康	东南大学电子工程系	11	24	4.0	4.0
2	邓一唯	东南大学电子工程系	2	5	1.0	2.0