硅集成电路用SiGe/Si异质结构材料及其制备技术

• 作者: 王凤娥
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: SiGe 异质结构 绝缘体上硅锗
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 758-763
• 页数: 6页
• 分类号: TN304
• 字数: 5528字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2003.06.023

摘要

SiGe技术是微电子领域的前沿技术, 在硅基集成电路方面有重要应用. 介绍了SiGe/Si和SiGe-OI两种SiGeSi异质结构材料, 综述了这两种材料的制备技术和研究进展, 讨论了SiGe异质结构材料应用于纳米集成电路等的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王凤娥	北京有色金属研究总院科技信息所	8	361	7.0	8.0