薄膜物理与制备

• 作者: 冯建鸿 吴卫东 唐晓虹 罗江山 许华 陈志梅 黄勇
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜物理 制备工艺 惯性约束聚变实验 低压等离子体化学气相沉积 磁控溅射法
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 页码范围: 99-100
• 页数: 2页
• 分类号: O484.1

摘要

薄膜物理与制备技术研究对于惯性约束聚变(ICF)实验具有重要意义，2003年开展的研究工作主要包括几个方面的内容：低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)法微球CH涂层及掺杂(溴等)技术研究；脉冲激光沉积(PLD)法Fe／Al合金薄膜研制；磁控溅射法Au／Gd，Ti／A1，Ti／Cr支撑薄膜研制；碳氢氮(CxNyH1-x-y)薄膜制备技术研究。相应主要结果如下：(1)利用低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)装置深入考察了以反式-2-丁烯如下：