热丝加热电流对CH薄膜沉积速率和表面形貌的影响

• 作者: 余斌 吴卫东 张占文 李波 王朝阳
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 热丝 CH薄膜 沉积速率 表面形貌
• 年，卷（期）: 2003,（8）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 769-772
• 页数: 4页
• 分类号: TL639.11
• 字数: 2375字
• 语种: 中文

摘要

热丝辅助裂解法是结合气相沉积制备聚对二甲苯薄膜和热丝化学气相沉积而形成的一种制备CH薄膜的新方法.热丝辅助裂解法的最大特点就是在保持低衬底温度情况下可以获得高沉积速率,而热丝加热电流对薄膜沉积速率和薄膜表面形貌具有重要影响.研究表明,热丝加热电流越大,薄膜沉积速率越高,在加热电流9A时,薄膜沉积速率可达0.002mm/min,同时薄膜表面粗糙度随之增加,薄膜表面也开始出现其它元素污染,因此,一般热丝加热电流选择为7A附近.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王朝阳	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	96	655	14.0	19.0
2	吴卫东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	140	1087	18.0	26.0
3	张占文	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	80	531	12.0	16.0
4	余斌	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	20	108	6.0	9.0
5	李波	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	109	718	13.0	19.0