椭偏光谱法研究激光脉冲沉积MgO薄膜材料生长

• 作者: CHOY Chung-loong MAK Chee-leng WONG Kin-hung 张曰理 莫党 陈晓原
• 来源期刊: 中山大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: MgO薄膜 脉冲沉积法 椭偏光谱 光学常数
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 页码范围: 18-22
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3524字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0529-6579.2003.02.006

摘要

用激光脉冲沉积技术生长、制备出了一系列不同真空度、不同衬底温度和不同激光脉冲能量的MgO薄膜.对生长、制备出的一系列MgO薄膜进行了椭偏光谱测量研究,在300～800nm光谱波长范围内,得到了不同条件下生长制备的MgO薄膜的光学常数谱和膜厚,其结果显示:真空度、衬底温度和激光脉冲能量对生长MgO薄膜的折射率、膜厚均有影响,高真空、高衬底温度和适中的激光脉冲能量有利于生长制备高折射率、高密度和高质量的MgO薄膜.