掺氮氧化钒薄膜的椭偏光谱表征

• 作者: 吴志明 李贺 王涛 蒋亚东 顾德恩
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 反应溅射 椭偏仪 氧化钒薄膜 掺氮
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 36-39
• 分类号: TN304.055
• 字数: 3198字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2011.06.011

摘要

利用反应溅射法,在Si(100)衬底上沉积了掺N氧化钒薄膜.借用SE850椭偏仪对薄膜进行了近红外波段(1300-2300 nm)的光谱测量,运用Tauc-Lorentz模型对薄膜的椭偏光谱数据进行了拟合,并计算了薄膜的光学参数(n,k)和厚度.结果表明:随着掺N量的增加,氧化钒薄膜的光学参数(n,k)随之增加,而其沉积速率则随之降低.这可能源于掺N增加了薄膜的致密度,同时减小了氧化钒的光学带隙.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志明	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	78	544	13.0	17.0
2	蒋亚东	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	318	2024	18.0	25.0
3	王涛	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	55	346	11.0	14.0
4	李贺	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	2	7	2.0	2.0
5	顾德恩	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	12	117	5.0	10.0