化学沉积法低温生长锰钴镍薄膜结晶性及红外椭偏光谱研究

• 作者: 侯云 李天信 葛玉建 褚君浩 覃剑欢 黄志明
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: X射线衍射 原子力显微镜 红外椭偏光谱
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 页码范围: 413-416
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 3168字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9014.2008.06.004

摘要

使用化学沉积方法,在600℃温度下,成功制备锰钴镍(MnxCoyNi3-x-y)O4(MCN)薄膜.传统的固熔烧结工艺合成MCN材料需要的温度条件约为1050～1200℃,与这一温度相比,本文的方法使合成温度降低了许多.随着退火后处理温度从600℃升高到900℃,MCN薄膜的晶粒尺寸大小从20nm增大到50nm.同时还利用红外椭偏光谱测量获得MCN薄膜的介电常数和吸收系数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄志明	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	43	424	10.0	19.0
2	褚君浩		103	650	13.0	22.0
5	侯云	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	7	18	3.0	3.0
6	葛玉建	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	2	7	2.0	2.0
7	覃剑欢	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	2	6	2.0	2.0
8	李天信	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	2	7	2.0	2.0