一种硅衬底镂空结构的圆形射频微电感

• 作者: 周勇 戴旭涵 王西宁 蔡炳初 赵小林
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 圆形微电感 MEMS 射频 硅衬底 刻蚀
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 微机械加工技术
• 页码范围: 77-80
• 页数: 4页
• 分类号: TM55
• 字数: 1275字
• 语种: 中文

摘要

利用MEMS工艺以及硅的湿法刻蚀工艺制作了一种硅衬底镂空结构的圆形射频微电感,并研究了硅衬底背面减薄对射频微电感性能的影响,结果表明:微电感硅衬底经过局部刻蚀减薄后其自谐振频率上升,电感量的频率稳定性提高,而其最大Q值下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴旭涵		2	12	1.0	2.0
2	赵小林		5	22	3.0	4.0
3	蔡炳初		5	24	3.0	4.0
4	王西宁		3	8	1.0	2.0
5	周勇		4	11	2.0	3.0