深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS 1.0

• 作者: 伊福廷 叶甜春 张菊芳 王德强 谢常青 陈大鹏 韩勇
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: X射线光刻 同步辐射 束衍生法 面向对象编程
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 27-30,35
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1968字
• 语种: 中文

摘要

介绍了一套自行研制的深亚微米同步辐射X射线光刻模拟软件--XLSS 1.0.该软件基于面向对象技术,采用束衍生法及快速傅里叶变换相结合的方法来研究X射线掩模中吸收体的光导波效应,对光刻胶表面空间光强分布及光刻胶剖面进行了精确模拟计算,发现模拟结果与实验结果吻合很好,且模拟结果的特征尺寸宽度与实验结果的特征尺寸宽度误差小于±10%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶甜春	中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室	200	911	14.0	18.0
2	张菊芳		21	136	6.0	11.0
3	陈大鹏	中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室	79	466	10.0	17.0
4	韩勇	中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室	67	1000	16.0	30.0
5	王德强	中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室	28	248	10.0	14.0
6	伊福廷	中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室	38	150	6.0	10.0
7	谢常青	中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室	50	258	9.0	12.0