CVD掺硫金刚石薄膜的应力研究

• 作者: 南景宇 杨景发 王永杰 赵庆勋 闫正
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜物理学 化学气相沉积 金刚石薄膜 掺杂 应力
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 光束传输与控制,材料、薄膜及元器件
• 页码范围: 480-482
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 1538字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2004.z1.160

摘要

以[CH/H2/Ar/H2S]为工作气体,采用辉光等离子体辅助化学气相沉积(CVD)技术,对掺硫金刚石薄膜的应力进行了研究,结果表明:在典型的掺硫金刚石薄膜制备工艺条件下,随着硫碳比的增加,总应力和本征应力星减小趋势,在硫碳体积比RS/C=4.2×10-3时,总应力有最大值23GPa;在R S/C=6.5×10-3时,本征应力可以抵消热应力,而使总应力的绝对值最小,在此条件下所合成的金刚石薄膜与衬底的附着性较好,有利于金刚石薄膜的稳定生长.分析认为金刚石薄膜的晶粒边界密度,sp2碳相等杂质分别是产生张力、压力的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵庆勋	河北大学物理科学与技术学院	54	254	10.0	13.0
2	王永杰	河北大学物理科学与技术学院	6	12	2.0	3.0
3	南景宇	张家口师范专科学校物理系	3	5	1.0	2.0
4	杨景发	河北大学物理科学与技术学院	65	377	10.0	16.0
5	闫正	河北大学物理科学与技术学院	56	252	9.0	11.0