p-Si薄膜生长的ECR-CVD等离子体系统的结构设计

• 作者: 刘永刚 宣丽 殷景志 胡立发 邵丽梅 阮圣平 龙北红
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 电子回旋共振 微波等离子体 p-Si薄膜
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 199-201
• 页数: 3页
• 分类号: TN305
• 字数: 2238字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2004.03.009

摘要

提出了一种生长p-Si薄膜的ECR-PECVD等离子体系统.系统采用永磁铁和线圈相结合,改善反应室磁场的均匀性;微波窗口设计成多层结构,避免窗口污染;衬底托架移动和旋转利于改善生长膜的均匀性.