用于光刻成像技术中的双腔准分子光源

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 双腔技术的准分子光源 深紫外綫 波长 数值孔径
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 专题报道(光刻技术与设备)
• 页码范围: 15-18
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文

摘要

MOPA(Master Oscillator&Power Amplifier)是采用双腔技术的准分子光源,它的成功量产将向光刻工厂提供前所未有的光谱带宽性能和输出功率,并大大降低成本,而且还适用于所有DUV曝光波长.