氩气分压与膜厚对溅射Al膜微结构及应力的影响

• 作者: 孙兆奇 宋学萍
• 来源期刊: 合肥工业大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 溅射Al薄膜 氩气分压 微结构 应力
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 页码范围: 384-387
• 页数: 4页
• 分类号: O484.415
• 字数: 2552字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-5060.2004.04.011

摘要

在不同氩气分压下,用直流溅射法在室温Si基片上制备了不同厚度的Al膜.用光学干涉相移法和X射线衍射技术,对薄膜应力和微结构进行了测试分析.微结构分析表明:制备的Al膜均呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方;氩气分压分别为1 Pa和3 Pa的Al膜相比,1 Pa下制备的薄膜结晶程度明显优于3 Pa下制备的薄膜. 1 Pa下Al膜平均晶粒尺寸随膜厚的增加由17.9 nm逐渐增大到26.3 nm;晶格常数由0.403 7 nm增大到0.404 7 nm,均比标准值0.404 96 nm稍小.应力分析表明:同一工作气体压强( 氩气分压)下,Al膜的平均应力随着膜厚的增加变小,应力分布趋向均匀.相同时间1 Pa和3 Pa的Al膜,其微结构和应力有较大差别.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋学萍	安徽大学物理系	63	367	10.0	14.0
2	孙兆奇	安徽大学物理系	91	563	11.0	16.0