膜厚对直流磁控溅射Nb薄膜微结构的影响

• 作者: 何智兵 吴卫东 唐永建 宋萍 张宝玲 李俊 李盛印 林华平 江玲 王锋 许华 谌家军
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: ICF靶 直流磁控溅射 Nb膜 择优取向 体心立方
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 413-418
• 页数: 6页
• 分类号: O484.5
• 字数: 3867字
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射方法制备膜厚为50, 100, 200, 400, 600 nm的Nb薄膜,对薄膜的沉积速率、表面形貌、晶体结构进行了研究,并对其应力和择优取向进行了详细的分析.原子力显微镜图像显示Nb膜表面光滑、致密,均方根粗糙度达到0.1 nm量级.X射线小角衍射给出了薄膜的晶格结构、晶粒尺寸和应力情况.分析表明薄膜为多晶体心立方结构(bcc),在(110)晶面方向存在明显的择优取向,且随着薄膜厚度增大而增强.Nb膜应力先随薄膜厚度增大而增大,在200 nm时达到最大值(为1.015 1 GPa),后随薄膜厚度的增大有所减小.