LiBq4/ITO和LiBq4/CuPc/ITO表面的AFM与XPS分析

• 作者: 宋珍 张福甲 徐勇 桂文明 欧谷平
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 发光材料 蓝色OLED 缓冲层CuPc
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 发光材料
• 页码范围: 124-126
• 页数: 3页
• 分类号: TN383
• 字数: 1315字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2004.z1.036

摘要

用AFM对蓝色OLED的空穴传输层LiBq4/ITO和LiBq4/CuPc/ITO表面扫描.结果均呈岛状结构.LiBq4沉积在ITO上成膜较差,在CuPc上成膜较好.说明加入CuPc能有效改善LiBq4的成膜质量.XPS对样品表面In3d和Sn3d的电子状态分析也证实ITO表面沉积LiBq4膜存在裂缝,加入CuPc可抑制裂缝出现.分析指出,CuPc由于Cu(Ⅱ)离子半满的dx2-y2轨道在卟啉环平面内和氮强烈作用形成离域大π键,使LiBq4的沉积状态改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	欧谷平	兰州大学物理系	27	88	6.0	7.0
2	宋珍	北京机械工业学院基础部	13	40	5.0	5.0
3	桂文明	兰州大学物理系	10	56	5.0	7.0
4	张福甲	兰州大学物理系	71	318	9.0	14.0
5	徐勇	兰州大学物理系	4	19	2.0	4.0