CuPc/ITO结构的表面和界面电子态的XPS研究

• 作者: 何锡源 张旭 张福甲 郑代顺 郜朝阳
• 来源期刊: 光谱学与光谱分析
• 学科: 工学
• 关键词: CuPc/ITO XPS 表面与界面分析
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 页码范围: 502-506
• 页数: 5页
• 分类号: TN383+.1|TN873+.3
• 字数: 3227字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-0593.2004.04.034

摘要

覆盖有Indium-tin-oxide(ITO)膜的透明导电玻璃广泛地用作有机发光器件(OLEDs)的空穴注入电极, 但是ITO膜的功函数通常与空穴传输材料的最高被占据分子轨道(HOMO)不匹配. 铜酞菁(CuPc)作为缓冲层可以提高空穴从ITO向空穴传输材料的注入效率. 对CuPc/ITO样品的XPS表面分析表明, 在CuPc分子中, 铜原子显+2价, 通过配位键和氮原子相互作用. CuPc分子中有两类碳原子: 8个C原子与2个N原子成键; 其余24个C原子具有芳香烃性质. N原子也处在两种化学环境中: 有4个N原子只与2个C原子形成CNC键; 另外4个N原子不仅与2个C原子成键, 还通过配位键与Cu原子成键. 用氩离子束对样品表面进行了溅射剥蚀, 当溅射时间分别为2, 5, 10 min时进行XPS采谱分析, 结果表明, 随着氩离子束溅射时间增长, C 1s, N 1s峰变弱, Cu 2p, O 1s, In 3d, Sn 3d峰增强, C 1s, N 1s, O 1s, In 3d和Sn 3d峰都向高束缚能或低束缚能方向移动, 但它们的情况却不相同.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张福甲	兰州大学物理科学与技术学院	71	318	9.0	14.0
2	张旭	甘肃联合大学数学与信息学院	13	78	5.0	8.0
3	郑代顺	兰州大学物理科学与技术学院	8	80	5.0	8.0
4	何锡源	兰州大学物理科学与技术学院	3	29	3.0	3.0
5	郜朝阳	兰州大学物理科学与技术学院	2	17	2.0	2.0