铀与表面铝薄膜界面反应的俄歇电子能谱分析

• 作者: 刘柯钊 周韦 杨江荣 肖红 蒋春丽 陆雷
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 工学
• 关键词: 界面反应 电子能谱分析 铝薄膜 表面 俄歇电子能谱仪 铀 Ar^+ UO2
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 页码范围: 273-274
• 页数: 2页
• 分类号: TB333

摘要

主要利用俄歇电子能谱（AES）研究了室温下铀、UO2与表面铝薄膜之间的界面反应，以及退火对界面反应的影响。在俄歇电子能谱仪超高真空室中，利用Ar^＋枪溅射铝靶，使其分别逐步沉积到铀基体与UO2表面上，然后利用电子枪适时采集表面俄歇电子能谱，研究膜基界面反应。