电沉积坡莫合金薄膜的结构和纵向磁阻抗效应

• 作者: 凯木尔 宫峰飞 杨燮龙 沈国土 袁望治 阮建中
• 来源期刊: 华东师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 结构 磁阻抗 坡莫合金 电沉积
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 63-67
• 页数: 5页
• 分类号: TM271.2
• 字数: 589字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5641.2005.01.011

摘要

采用电沉积法制备了厚度为1.1μm到6.9μm的坡莫合金薄膜.经X-射线衍射分析,其结构为fcc结构,其中NiFe(111)衍射峰的强度明显增强.该薄膜的磁滞回线测量结果表明:其矫顽力随着薄膜厚度的增加而减小.在交流Irms=6 mA,频率范围在0.05 kHz到600 kHz的条件下,纵向磁阻抗比随着薄膜厚度的增加而增加,其最小值可达-52%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁望治	华东师范大学物理系	29	139	6.0	9.0
2	阮建中	华东师范大学物理系	31	145	6.0	10.0
3	杨燮龙	华东师范大学物理系	43	398	10.0	18.0
4	宫峰飞	华东师范大学物理系	11	173	5.0	11.0
5	沈国土	华东师范大学物理系	32	260	8.0	15.0
6	凯木尔	华东师范大学物理系	1	4	1.0	1.0