射频反应磁控溅射制备氧化铬薄膜技术及性能

• 作者: 杨会生 熊小涛 王燕斌 阎良臣
• 来源期刊: 北京科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化铬 薄膜 磁控溅射 力学性能
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 205-208,212
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.44|O484.4
• 字数: 2870字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-053X.2005.02.018

摘要

研究了采用射频反应溅射方法制备氧化铬耐磨镀层的技术和薄膜的性能.结果表明,采用金属靶材进行射频反应溅射时,由于靶材与反应气体的反应,会出现两种溅射模式,即金属态溅射和非金属态溅射,非金属态溅射模式的沉积速率很低.氧化铬薄膜的硬度主要决定于薄膜中Cr2O3含量,在供氧量不足时会生成低硬度的CrO,制备高硬度氧化铬薄膜需要采用尽可能高的氧流量进行溅射.采用在基片附近局域供氧,可以实现高溅射速率下制备出高硬度的氧化铬薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王燕斌	北京科技大学材料物理与化学系	44	250	9.0	13.0
2	杨会生	北京科技大学材料物理与化学系	21	118	6.0	10.0
3	熊小涛	北京科技大学材料物理与化学系	14	138	8.0	11.0
4	阎良臣	北京科技大学材料物理与化学系	1	11	1.0	1.0