白宝石上生长SiO2薄膜的工艺

• 作者: 冯丽萍 徐新
• 来源期刊: 材料开发与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控反应溅射 白宝石 二氧化硅薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TN213
• 字数: 2850字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-1545.2005.03.010

摘要

用射频磁控反应溅射法,以高纯Si为靶材,高纯O2为反应气体,在白宝石上制备SiO2薄膜.对影响薄膜生长的工艺参数进行了分析,测试了薄膜的成分,并研究了薄膜的红外光学性能.结果表明,制备的薄膜中Si和O形成SiO2化学键,计算出的O与Si的原子比接近2:1,采用射频磁控反应溅射法在白宝石上能够沉积出SiO2薄膜.制备出的SiO2薄膜对白宝石衬底有较好的增透作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯丽萍		45	159	7.0	9.0
2	徐新		4	18	3.0	4.0