负偏压对低温沉积TiN薄膜表面性能的影响

• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 低温 磁控溅射 负偏压 TiN薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 20-23,27
• 页数: 5页
• 分类号: TB747
• 字数: 3417字
• 语种: 中文

摘要

研究了在低温磁控溅射沉积TiN薄膜过程中,负偏压对基体温度、薄膜表面性能、薄膜与基体界面结合强度以及摩擦学性能的影响.研究结果表明,加负偏压条件下,明显提高基体温度,有益于晶粒细化,提高硬度,改善色泽,提高TiN/基体的界面结合强度,但会引起表面轻微的粗糙化;摩擦学试验表明,负偏压对低温磁控溅射TiN薄膜及其摩擦副的摩擦磨损性能的影响较明显.