氮流量对磁控溅射法制备氮化钛薄膜光学性能的影响

• 作者: 徐成俊 黄佳木
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜光学 光学性能 磁控溅射 电子结构 氮化钛
• 年，卷（期）: 2005,（9）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1293-1296
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3492字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2005.09.027

摘要

采用磁控溅射方法在载波片和A1基片上制备了氮化钛薄膜;通过改变N2流量来改变薄膜中N/Ti原子比例.采用分光光度计和扫描隧道显微镜测试手段对氮化钛薄膜光学性能随N2流量变化的规律进行了研究.薄膜反射率光谱和扫描隧道图谱分析表明,氮化钛薄膜主要遵循自由载流子光吸收机制,随着N含量的增加,薄膜中的自由电子数目不断减少,等离子体频率逐渐红移,反射率降低,薄膜颜色发生变化.从薄膜扫描隧道谱(STS)可知,TiN薄膜表现出类似金属的光学性能,并且其禁带宽度Eg=1.64 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄佳木	重庆大学材料学院	84	690	13.0	20.0
2	徐成俊	重庆大学材料学院	3	70	3.0	3.0