PDP中ITO膜制作工艺技术的研究

• 作者: 张劲涛 范玉锋 雷刚
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: ITO 刻蚀 PDP 玻璃基板
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺与应用
• 页码范围: 42-44,50
• 页数: 4页
• 分类号: TN141
• 字数: 2341字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2005.06.010

摘要

概述了ITO的特性和它在PDP显示中所起的作用.通过大量实验摸索了一套适合实验室制作刻蚀ITO膜的工艺,其中包括涂胶、擦边、曝光、显影、刻蚀等.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范玉锋	西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室	14	32	3.0	4.0
2	张劲涛	西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室	19	54	4.0	6.0
3	雷刚	西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室	7	19	3.0	4.0