稀土Nd掺杂纳米SnO2薄膜特性

• 作者: 吉雅图 李健 韩菲 高燕
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 真空蒸发 Nd掺杂 纳米 SnO2薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 283-286,289
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3779字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.04.012

摘要

对采用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备的稀土Nd掺杂的SnO2薄膜,进行结构、电学及光学特性的测试分析.实验表明:氧化、热处理条件为500 ℃、45 min时样品性能好.采用一步成膜工艺法制备的SnO2薄膜晶粒度较小,随掺Nd浓度的增大,从31.516 nm减小到25.927 nm;两步成膜工艺法制备的SnO2薄膜晶粒度随掺Nd浓度的增大,从45.692 nm增至66.256 nm.XRD分析,掺Nd(5 at%)薄膜沿[110]、[101]晶向的衍射峰加强,薄膜呈多晶结构.掺Nd可使薄膜透光率下降,而薄膜的薄层电阻随热处理温度升高和掺Nd浓度的增大,呈先降后升趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李健	内蒙古大学理工学院物理系	36	200	7.0	12.0
2	吉雅图	内蒙古大学理工学院物理系	3	15	3.0	3.0
3	韩菲	内蒙古大学理工学院物理系	2	5	1.0	2.0
4	高燕	内蒙古大学理工学院物理系	2	6	1.0	2.0