氨气和氮气气氛下热处理对ITO薄膜光电性能的影响

• 作者: 刁训刚 刘海鹰 杨盟 王天民
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 氨气和氮气气氛 热处理 ITO薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 1637-1641
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 2312字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2005.10.031

摘要

利用射频磁控溅射在室温玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,并分别在氨气、氮气和空气气氛下对薄膜进行了热处理.利用X射线衍射、霍尔效应、UV-VIS-NIR分光光度计等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了不同热处理气氛及温度对ITO薄膜光电特性的影响.结果发现在不同气氛下热处理均能明显提高ITO薄膜在可见光区的透过率,氨气气氛下更有利于薄膜导电特性的改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王天民		140	1545	22.0	32.0
2	刁训刚		55	359	10.0	16.0
3	杨盟		7	105	5.0	7.0
4	刘海鹰		6	75	4.0	6.0