热处理对ITO薄膜光电性能和抗蚀刻性的影响

• 作者: 姚亮 张永爱 郭太良
• 来源期刊: 福州大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: ITO 热处理 光电性能 抗蚀刻性
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 523-526
• 页数: 4页
• 分类号: O463.1
• 字数: 2370字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2243.2008.04.012

摘要

利用不同的热处理温度对磁控溅射在玻璃基底的ITO薄膜进行退火处理.借助于原子力显微镜(AFM)、分光辐射计、四探针电阻测试仪等测试手段对不同热处理后的ITO薄膜样品进行表征,研究了不同热处理温度对ITO薄膜表面形貌、面电阻、透光率及抗刻蚀性能的影响.结果表明,随着退火温度的升高,ITO薄膜表面粗糙度增加,面电阻增大,在可见光区的透光率变大,耐刻蚀性增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭太良	福州大学物理与信息工程学院	302	1102	15.0	21.0
2	张永爱	福州大学物理与信息工程学院	57	199	8.0	11.0
3	姚亮	福州大学物理与信息工程学院	7	48	4.0	6.0