工艺条件对柔性衬底ITO薄膜光电性能的影响

• 作者: 林钰 贾晓林 辛荣生
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: DC磁控溅射 柔性衬底 ITO薄膜 电阻率 透光率
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 43-45
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 2775字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2009.06.013

摘要

采用直流磁控溅射法在柔性衬底上镀制ITO透明导电薄膜,全面研究了薄膜厚度、氧气流量、溅射速率、溅射气压和镀膜温度等工艺条件对ITO薄膜光电性能的影响.结果表明,当膜厚大于80 nm、氧氩体积比为1∶40、溅射速率为5 nm/min、溅射气压在0.5 Pa左右、镀膜温度为80～160 ℃时, ITO薄膜的光电性能较好,其电阻率小于5×10-4 Ω·cm、可见光透光率大于80%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贾晓林	郑州大学材料科学与工程学院	72	778	13.0	24.0
2	林钰	河南教育学院化学系	34	267	9.0	15.0
3	辛荣生	郑州大学材料科学与工程学院	27	246	9.0	14.0