氧气气氛下退火处理对ITO薄膜性能的影响

• 作者: 康朝阳 张宝庆 曹国华 李明 蔡红新
• 来源期刊: 河南理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: ITO 表面化学组分 退火处理
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 水木与材料工程
• 页码范围: 671-674
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2644字
• 语种: 中文

摘要

采用AFM,XPS,Hall等手段分析了氧气气氛下退火处理对ITO薄膜性质的影响,并用处理的ITO制作了有机电致发光器件.结果表明,退火处理后ITO薄膜的表面粗糙度增加,光学透过率降低.ITO薄膜经0.5h退火后电阻率增大了近2倍,对有机半导体材料的空穴注入能力显著提高,相应的有机发光器件性能得到明显改善.ITO薄膜光电性能的变化归因于ITO表面化学组分的改变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蔡红新	河南理工大学物理化学学院	16	25	3.0	3.0
2	张宝庆	河南理工大学材料科学与工程学院	17	105	6.0	10.0
3	李明	河南理工大学物理化学学院	24	58	4.0	6.0
4	康朝阳	河南理工大学物理化学学院	6	13	3.0	3.0
5	曹国华	河南理工大学物理化学学院	10	33	3.0	5.0