电子束致沉积手控生长碳纳米线

• 作者: 彭练矛 王晶云 王鸣生 陈清
• 来源期刊: 电子显微学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束致沉积 无定型碳纳米线 透射电子显微镜 器件构造
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 11-16
• 页数: 6页
• 分类号: TB383|TG115.21+5.3
• 字数: 2540字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6281.2005.01.003

摘要

用电子束致沉积(EBID)来制备各种纳米尺寸的结构在纳米材料的制备和器件构建方面有着良好的应用前景.相对于聚焦离子束(FIB),它具有对样品损伤小和所得结构尺寸更小等优点.此前,电子束致沉积的工作大多数在扫描电镜中完成,而在透射电镜中沉积直到近两年才发展起来.本文尝试在普通热发射透射电镜中,手动控制生长碳纳米线、点等结构.对碳纳米线的生长过程进行了原位观测,并对电子束斑的大小、形状和辐照时间对沉积物形状的影响作了初步的研究.最后对电子束致沉积可控生长无定型碳纳米线可能的应用作了一些探索.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈清	北京大学电子学系教育部纳米器件物理与化学实验室	36	296	9.0	16.0
2	彭练矛	北京大学电子学系教育部纳米器件物理与化学实验室	22	71	4.0	7.0
3	王鸣生	北京大学电子学系教育部纳米器件物理与化学实验室	3	25	2.0	3.0
4	王晶云	北京大学电子学系教育部纳米器件物理与化学实验室	3	11	2.0	3.0