光学薄膜元件的激光预处理技术

• 作者: 范正修 贺洪波 赵元安 邵建达 魏朝阳
• 来源期刊: 激光与光电子学进展
• 学科: 工学
• 关键词: 光学薄膜 激光预处理 激光损伤阈值 小光斑光栅扫描
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 光电子器件与技术
• 页码范围: 51-55
• 页数: 5页
• 分类号: TN2
• 字数: 4611字
• 语种: 中文

摘要

激光预处理技术作为一种提高激光约束核聚变装置中光学元件损伤阈值的有效方法,有重要的使用价值和学术价值.介绍了激光预处理的研究现状,重点介绍了小光斑光栅扫描预处理的方法及其应用,以及应注意的问题.讨论了几种被广泛认可的预处理增强机理,并对激光预处理技术进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	贺洪波	中国科学院上海光学精密机械研究所	48	491	16.0	19.0
4	赵元安	中国科学院上海光学精密机械研究所	47	315	11.0	15.0
5	魏朝阳	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	74	4.0	8.0