高反射率193 nm Al2O3/MgF2反射膜的实验研究

• 作者: 侯海虹 尚淑珍 张大伟 易葵 范正修 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 高反膜 光学常数 Al2O3 MgF2
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 685-688
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3030字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2005.05.024

摘要

用电子束热蒸发方法在熔融石英基底上沉积了Al2O3和MgF2两种材料的单层膜,研究了两种材料的光学特性,采用光度法计算并给出了薄膜材料在180～230 nm的折射率n和消光系数k的色散曲线.以两种材料作为高低折射率材料组合,采用1/4波长规整膜系设计并镀制了193 nm的高反射膜,反射膜在退火后的反射率在193 nm达到96%以上.结果表明在一定工艺条件下Al2O3和MgF2两种材料能够在193 nm获得较好的光学性能,适用于高反射膜的制备.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	67	518	14.0	18.0
3	尚淑珍	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	4	42	4.0	4.0
4	侯海虹	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	8	113	6.0	8.0
5	张大伟	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	38	189	7.0	12.0